第二天一早，古工和苏工照常出现在洁净车间。
古工泡了一杯茶，苏工正在给激光干涉仪做每天的例行校准。
两人都不知道昨天晚上发生了什么——在他们的认知里，光刻机还是昨天那台基础版样机，精度二十五纳米，够用但不算顶尖。
古工端着茶杯站在光刻机前面，说道：
“许队长说后续优化方案他来想办法，也不知道他的方案要多久才能落地。这台机器底子不错，如果能换一个更好的光源模组，精度应该能往上再走一截。”
苏工校准完最后一个参数，合上干涉仪的校准日志，说：
“光源模组只是其中一个因素，运动平台的定位精度、光学系统的像差校正、曝光光源的波长——这些都要同步提升才能见效，单独动一个没用。我觉得能优化的空间有限，可能最终能拉到十几纳米就不错了。”
古工点了点头：“十几纳米也不错了，起码能追上国际主流水平，那就开始今天的测试吧。”
两个人照常启动光刻机，装入前一天准备好的晶圆毛坯料。
苏工调出生产排程表，准备按基础版的参数跑第二批测试芯片。
控制面板亮起来的那一刻，苏工的动作顿了一下，然后指着屏幕上的系统自检报告说：
“古工，你快过来看一下。”
古工端着茶杯走过来，目光落在屏幕上，然后他的脚步停住了。
屏幕上显示的系统自检参数和昨天完全不一样。
今天的光学系统精度那一栏的数字比昨天高了整整一个数量级都不止，精密运动平台的定位精度后面多了两个零，曝光光源的波长从深紫外波段变成了极紫外波段。
控制系统那一栏多了一个新条目：“人工智能自适应校正算法——已加载”。
古工一把将茶杯放在桌上，弯腰凑近屏幕：
“怎么回事？昨天关机的时候明明还是基础版参数，晚上有人进来动过机器？”
苏工调出系统的运行日志，逐行翻看。
日志显示前一天晚上有一个持续近两个小时的系统升级记录，时间戳从接近凌晨的时候开始。
升级内容列出了密密麻麻的技术参数变更，每一项都有完整的校验记录。
但日志里没有任何操作人员的信息，也没有任何外部设备接入的记录。
苏工疑惑的说着：
“不对啊，这好像的系统自己升级的，这怎么可能？”
古工没有说话，他的目光扫过升级后的技术参数表，在曝光线宽那一栏停了下来。