只可惜，搭载了园洲一号芯片的nc是基于lux工作环境，它连上互联网后同样需要服务器端的支持，而服务器端被微软和英特尔(tel)联盟把持，他们根本不支持nc内嵌的lux工具软件，因此nc在互联网环境下的使用大受局限。
后期南广林和园洲公司的董事长在这件事情上产生了很大的分歧，最后南广林不得不负气离开，导致这个芯片项目中途落马。
韩小东不想让历史重演一遍。
他斟酌了一下语言，“南工，你有没有想过？咱们能不能研发出光刻机来？”
“光刻机？”南广林有些吃惊，“小东，难道你想研发光刻机？这东西可比芯片更费钱。”
“南工，我说过，钱是我考虑的问题，你只需要考虑科研上的事情，南工，你就说依靠我们自己的力量能不能做成这件事，如果可行，花多少钱我都愿意。”
南广林并没有马上回答韩小东这个问题，他有着科技工作者独有的严谨，他足足思考了三分钟，这才缓缓开口。
“小东，其实咱们国家的光刻机制造，很早以前就开始了。”
1965年华夏科学院研制出65型接触式光刻机。
1970年，华夏科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。
1972年，武汉无线电元件三厂编写《光刻掩模版的制造》。
1977年，我国最早的光刻机-gk-3型半自动光刻机诞生，这是一台接触式光刻机。
1978年，1445所在gk-3的基础上开发了gk-4，但还是没有摆脱接触式光刻机。
1980年，清华大学研制第四代分步式投影光刻机获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。
1981年，华夏科学院半导体所研制成功jk-1型半自动接近式光刻机。
1982年，科学院109厂研制出了kha-75-1光刻机，这些光刻机在当时的水平均不低，最保守估计跟当时最先进的canon相比最多也就不到4年。
1985年，机电部45所研制出了分步光刻机样机，通过电子部技术鉴定，认为达到米国4800dsw的水平。这应当是华夏第一台分